Maskenherstellung

Je nach physikalischer Fragestellung ist es möglich, dass eine oder mehrere Masken hergestellt werden müssen. Die Masken (plus die folgenden Prozessschritte) dienen dazu den Halbleiter dahingehend zu modifizieren, die Fragestellung über Messungen beantworten zu können.

Darunter gehört die Definition:

• des Stromverlaufs(Mesa-Struktur)
• von Kontakten (Kontakt-Struktur)
• von Gates (Gate-Struktur)

Jede Maske wird zunächst am Computer mittels CorelDraw generiert, um sie dann auf ein Poster (DIN A0) zu drucken. Von diesem Poster wird dann mit einer speziellen Kamera eine Langzeitaufnahme gemacht, so dass ein negatives Abbild des Posters auf einer lichtempfindlichen "Fotoplatte" festgehalten wird. Diese Fotoplatte ist nach Entwicklung die fertige Maske, mit der man die oben genannten Definitionen im Gelbraum auf die Halbleiterprobe bringen kann.

Schritte zur Maskenherstellung:

• Unbelichtete Fotoplatten befinden sich im Fotolabor
• Die Fotoplatte im Fotolabor in die Kamera einsetzen: 1) Stift an der Kamera herausziehen und Klappe öffnen, 2) Emulsionsseite der Fotoplatte in die Kamera einlegen (Emulsionsseite zum Kamerainneren), 3) Stift wieder reinstecken und Klappe schließen
• Kamera mit passendem Objektiv versehen und Blendenzahl einstellen
• Einer Liste im Photolumineszenzlabor entnimmt man die Werte für "Entfernung", "Objektiv", "Vergrößerung" und "Belichtungsdauer"
• Kamera von L(Lock) auf B(Belichten) stellen
• DIN A0 Poster an der richtigen Position der Wand befestigen (Makierungen beachten)
• Fernauslöser sowie Strom für Kamera einstellen/einstecken
• 4 Lampen ein-, Deckenbelichtung ausschalten
• Kamerablende abnehmen, Kamera mittig auf Poster ausrichten, "Film laden" und beim Auslösen die Stopuhr starten
• Nach Zeitablauf "geriffelten" Ring an der Kamera nach oben drücken um Belichtungsvorgang zu unterbrechen
• Danach Fotoplatte im Fotolabor entnehmen und entwickeln (siehe Fotolabor)