Aufgaben

Einführung in den experimentellen Aufbau

Ziel:

a) Kennenlernen der Bauteile und Bedienung, sowie Vorbereitung des Aufbaus für das Experiment.

b) Verstehen der induktiven Entladungen in Plasmen (Inductively Coupled Plasma)

Aufgabe 1:

Stellen Sie das Ar ICP bei einem Gasdurchsatz von 5 sccm, Druck 5 Pa und rf-Leistung von 100 W her. Üben Sie sich in der Abstimmung der Leistung auf das Plasma. Bei sehr niedrigen Leistungen ist die Plasmadichte zu gering für induktive Entladungen, daher wird die Energie durch eine kapazitive Entladung an das Plasma abgegeben. Das Plasma heißt dann Capacitively Coupled Plasma (CCP). Die Plasmadichte ist im CCP-Zustand viel geringer und daher auch die Lichtemission des Plasmas. Durch Messung der Plasmaemission mit Hilfe von einem kleinen Emissionsspektrometer soll die Leistung gefunden werden, bei der der Übergang vom CCP nach ICP erfolgt.

Fürs Protokoll: Beschreiben Sie mit eigenen Worten was man als Niedertemperatur- und Niederdruck-Plasmen bezeichnet. Stellen Sie kurz den Aufbau des Versuches dar. Erklären Sie die Funktion der Matchbox und den Übergang vom ICP zum CCP (bei welcher Leistung erfolgt er unter unseren Bedingungen?).

Einführung in die Massenspektrometrie

Ziel:

a) Kennenlernen der Bauteile und Bedienung des Massenspektrometers (MS).

b) Verstehen des Massenspektrums und den Ein°uss der Einstellungen des MS auf das Spektrum.

c) Messung der Kalibrierspektren

Auswertung des Massenspektrums - unbekanntes Gasgemisch

Ziel :

Auswertung des Massenspektrums eines unbekannten Gasgemisches mit Hilfe der Fußgänger-Methode und der Methode der kleinsten Quadrate

Messung des CH4-Plasmas

Ziel :

Messung des CH4-Plasmas. Dieses Plasma wird zum Auftragen dÄunner diamantähnlicher Kohlewasserstofschichten verwendet.

Messung des Ar/O2-Plasmas

Ziel:

Messung des Ar/O2-Plasmas - Plasma wird zum Ätzen von Kohlenstoffschichten benutzt. In diesem Versuch wird das Ar/O2-Plasmas zum Reinigen der Plasmakammer verwendet.