Fokussierte Ionenstrahlen - Versionsgeschichte

P Lab: /* Aufbau einer FIB-Anlage */

2010-04-21T12:24:31Z

‎Aufbau einer FIB-Anlage

P Lab: /* Aufbau einer FIB-Anlage */

2010-04-21T12:23:31Z

‎Aufbau einer FIB-Anlage

P Lab am 21. April 2010 um 12:18 Uhr

2010-04-21T12:18:59Z

P Lab am 21. April 2010 um 12:18 Uhr

2010-04-21T12:18:43Z

P Lab: /* Aufbau einer FIB-Anlage */

2010-04-21T12:17:18Z

‎Aufbau einer FIB-Anlage

P Lab: /* Hardware- & Softwareanwendung */

2010-04-21T12:10:32Z

‎Hardware- & Softwareanwendung

P Lab: /* Aufbau einer FIB-Anlage */

2010-04-21T12:02:35Z

‎Aufbau einer FIB-Anlage

P Lab am 21. April 2010 um 11:16 Uhr

2010-04-21T11:16:29Z

P Lab am 21. April 2010 um 11:11 Uhr

2010-04-21T11:11:31Z

P Lab: hat „Fokussierende Ionenstrahlen“ nach „Fokussierte Ionenstrahlen“ verschoben

2010-04-21T11:10:59Z

hat „Fokussierende Ionenstrahlen“ nach „Fokussierte Ionenstrahlen“ verschoben

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 * '''FIB-Steuerung:''' Die Anlagen werden mithilfe LabViews gesteuert.
-[[Datei:FKP_W_FIB_Ionensorten.jpg|300px|vorhandene Ionensorten: orange]]
+[[Datei:FKP_W_FIB_Ionensorten.jpg|900px|vorhandene Ionensorten: orange]]
 <br style="clear: both" />

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 * '''Ionenoptische Säule:''' In der ionenoptischen Säule werden die aus der LMIS extrahierten Ionen auf das Probenmaterial beschleunigt und fokussiert. Sie hat zwei elektrostatische Linsen, die in der Regel ''Kondensorlinse'' und ''Objektivlinse'' genannt werden. Die Kondensorlinse bündelt den Ionenstrahl und die Objektivlinse fokussiert ihn auf die Probe. Das Verändern der Linsenspannungen erzeugt verschiedene Strahlengänge. Mit ''Blenden'' von unterschiedlichen Durchmessern kann man die Strahlgröße und den Strahlstrom(der über ein ''Faraday-Cup'' gemessen wird) zusätzlich zu den Linsen nochmals optimieren. Zur Steuerung des Ionenstrahls dient ein ''Deflektor''- und ein ''Blanking''system. Wie bei den Linsen erfolgt die Ablenkung des Strahls elektrostatisch. Plattenpaare für x- und y-Ablenkung, Quadrupole oder Oktupole erzeugen elektrische Felder, die den Strahl ablenken und über die Probe führen. Durch die maximal mögliche Ablenkung, die von der geometrischen Anordnung und der Beschleunigungsspannung abhängt, wird das Schreibfeld der FIB-Anlage definiert. Das Wegführen des Strahls von der Probe (blanking) kann ebenfalls durch verschiedene Plattenanordnungen erreicht werden.
 * '''FIB-Steuerung:''' Die Anlagen werden mithilfe LabViews gesteuert.
 <br style="clear: both" />

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 == Aufbau einer FIB-Anlage ==
 [[Datei:FKP_W_FIB_Fraise.jpg|miniatur|300px|Schematisch: FIB-Anlage Fraise]]
 Die Hauptbestandteile eines FIB-Systems sind eine Flüssigmetall-Ionenquelle (kurz LMIS=liquid metal ion source), eine ionenoptische Säule, ein Probentisch, ein Vakuumsystem, Detektoren und ein Computersystem zum Steuern der Anlage. Diese Bestandteile werden im Folgenden kurz beschrieben.

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 * '''Ionenoptische Säule:''' In der ionenoptischen Säule werden die aus der LMIS extrahierten Ionen auf das Probenmaterial beschleunigt und fokussiert. Sie hat zwei elektrostatische Linsen, die in der Regel ''Kondensorlinse'' und ''Objektivlinse'' genannt werden. Die Kondensorlinse bündelt den Ionenstrahl und die Objektivlinse fokussiert ihn auf die Probe. Das Verändern der Linsenspannungen erzeugt verschiedene Strahlengänge. Mit ''Blenden'' von unterschiedlichen Durchmessern kann man die Strahlgröße und den Strahlstrom(der über ein ''Faraday-Cup'' gemessen wird) zusätzlich zu den Linsen nochmals optimieren. Zur Steuerung des Ionenstrahls dient ein ''Deflektor''- und ein ''Blanking''system. Wie bei den Linsen erfolgt die Ablenkung des Strahls elektrostatisch. Plattenpaare für x- und y-Ablenkung, Quadrupole oder Oktupole erzeugen elektrische Felder, die den Strahl ablenken und über die Probe führen. Durch die maximal mögliche Ablenkung, die von der geometrischen Anordnung und der Beschleunigungsspannung abhängt, wird das Schreibfeld der FIB-Anlage definiert. Das Wegführen des Strahls von der Probe (blanking) kann ebenfalls durch verschiedene Plattenanordnungen erreicht werden.
 * '''FIB-Steuerung:''' Die Anlagen werden mithilfe LabViews gesteuert.
 == Hardware- & Softwareanwendung ==
 Da alle FIB-Anlagen unterschiedlich sind, ist die Hardware- und Softwareanwendung bei jedem System anders. Es bedarf hier in beiden Fällen einer Unterweisung an der Anlage/den Anlagen selbst.

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 == Aufbau einer FIB-Anlage ==
 [[Datei:FKP_W_FIB_Fraise.jpg|miniatur|300px|Schematisch: FIB-Anlage Fraise]]
 Die Hauptbestandteile eines FIB-Systems sind eine Flüssigmetall-Ionenquelle (kurz LMIS=liquid metal ion source), eine ionenoptische Säule, ein Probentisch, ein Vakuumsystem, Detektoren und ein Computersystem zum Steuern der Anlage. Diese Bestandteile werden im Folgenden kurz beschrieben.

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-Ein fokussierter Ionenstrahl (kurz FIB=focused ion beam) ist eine Anlage zur Oberflächenanalyse- und bearbeitung. Im Speziellen bedeutet das die Oberflächenmikroskopie, präzise Dotierung und das Abtragen von dünnen Schichten (Sputtern).
+Ein fokussierter Ionenstrahl (kurz FIB=focused ion beam) ist eine Anlage zur Oberflächenanalyse und -bearbeitung. Im Speziellen bedeutet das die Oberflächenmikroskopie, präzise Dotierung und das Abtragen von dünnen Schichten (Sputtern).
 == Was erhalte ich durch die Anwendung einer Anlage "fokussierete Ionenstrahlen"? ==
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 * das gezielte Dotieren des Festkörpers (Implantation)
 * das gezielte Abtragen des Targetmaterials
 Am Lehrstuhl für Angewandte Festkörperphysik stehen 6 verschiedene FIB-Anlagen zur Verfügung.
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 * Nicht-lineare Stoßkaskaden (spike) treten bei schweren Primärionen und großer Ionenenergie <math>E_0</math> > 100keV auf. Die Kollisionskaskade ist hier so dicht, dass sich ihre Äste überlappen. Dadurch bewegen sich die meisten Atome während der Kollision in einem begrenzten Volumen (Spikevolumen). Dies führt auch zur Zerstörung der lokalen Festkörperstruktur. Dieser Fall wird nur selten bei FIB-Anwendungen erreicht. Die Sputterrate ist proportional zur Energiedeposition pro Volumeneinheit.
 == Softwareanwendung ==

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−	~~[[Datei:FKP_W_EdwinHall.jpg\|miniatur\|200px\|Edwin Hall]]~~
	Ein fokussierter Ionenstrahl (kurz FIB=focused ion beam) ist eine Anlage zur Oberflächenanalyse- und bearbeitung. Im Speziellen bedeutet das die Oberflächenmikroskopie, präzise Dotierung und das Abtragen von dünnen Schichten (Sputtern).		Ein fokussierter Ionenstrahl (kurz FIB=focused ion beam) ist eine Anlage zur Oberflächenanalyse- und bearbeitung. Im Speziellen bedeutet das die Oberflächenmikroskopie, präzise Dotierung und das Abtragen von dünnen Schichten (Sputtern).

← Nächstältere Version	Version vom 21. April 2010, 11:10 Uhr
(kein Unterschied)